关键词:
纳米压印
多阶衍射透镜
紫外压印
微纳加工
消色差
摘要:
随着现代科学技术的发展,光谱探测器在传感、通讯、环境监测、安保以及生化检测等方面得到了广泛应用,目前市场上的设备普遍工作波段位于250nm-1750nm,如光电吊舱等,其面临的问题是波段调节困难且难于实现紫外-近红外的宽光谱相应。宽光谱探测的实现方法主要可以分为两个方面,一是通过微纳光学器件中的团簇嵌套结构实现超表面对波段的调控,二是通过多阶衍射透镜实现宽光谱范围内高质量消色差成像。典型的微纳加工技术主要有光刻、电子束直写、聚焦离子束刻蚀等,虽然精度高,但是效率低。目前,已有研究对多阶衍射透镜制备的最大口径不到15mm,团簇嵌套结构仅停留在仿真阶段。本文将制备口径50mm的多阶衍射透镜制备和口径1mm的团簇嵌套结构。
首先,本文介绍了现有的微纳制造技术发展现状,以及国内外的多阶衍射透镜结构以及团簇嵌套结构的制作情况。本文对主流的纳米压印技术进行了对比,并选择了以热压印与紫外压印相结合的方式作为本次项目的制备方法。
其次,本文通过建立多阶衍射透镜结构和团簇嵌套结构的仿真模型,分析了两者的光学特性以及误差对结果的影响。平面多阶衍射透镜在400-1100nm波段范围内具有良好的聚焦性能。团簇嵌套结构具备明显的能量聚集效应。
最终本文分别针对多阶衍射透镜与团簇嵌套微纳结构两种难以加工的复合结构,采用纳米压印技术,设立控制变量试验研究了制备流程中的旋涂工艺,分别研究了旋涂时的低转速、高转速对薄膜厚度的以及薄膜均匀性的影响。研究了匀胶时产生边缘效应的原因,给出了胶体烘干方案,减少了边缘效应对匀胶的影响。分别对多阶衍射透镜和团簇嵌套结构设立正交实验,研究压印压力,接触速度,充型时间、紫外曝光时间等工艺参数对制备结果精度的影响。总结出适合于生产的制备工艺参数,利用扫描电镜检测制备结果。最终成功制备出实际值与设计值误差率小于5%,口径为50mm,深宽比为2:1的多阶衍射透镜结构。并利用电子束直写技术制备出了误差范围小于10%的团簇嵌套结构。本文提出的这种低成本高效率的制备方案,有望实现微纳复合结构的批量化生产,对拓展微纳复合结构的应用领域具有重要意义。