关键词:
高压
Ⅲ-Ⅴ族磷化物半导体
层状金属磷硫族化合物半导体
光电性能
超导电性
摘要:
半导体材料作为现代工业技术的基础,在现代通信、互联网、人工智能、汽车电子等行业具有至关重要的作用。目前,半导体器件主要由硅基材料制成。但受到自身物理特性的限制,Si基半导体器件难以满足市场和科技发展的巨大需求。因此,亟需开发出具有优异性能的半导体材料。Ⅲ-Ⅴ族磷化物半导体和层状金属磷硫族化合物半导体同为典型的含磷半导体材料,具有丰富的结构和优异的物理性质,在光学、电子学、光电子学等领域展现了巨大的应用潜力,近年来引起了研究者们的广泛关注。其中,Ⅲ-Ⅴ族磷化物半导体材料的原料廉价无毒、合成方法成熟、光学性质优异和带隙宽度适中,可通过掺杂和构建异质结等调控手段有效调节其光学、电学等性质;层状金属磷硫族化合物半导体材料原子构型丰富、易于剥离、光谱响应范围较宽、光电响应性能优异,可通过施加应力、电场等方式有效调控其光学带隙等参数,显著提升其电学和光学性能。压力作为一种干净有效的调控手段,可以通过调控材料晶体结构、电子结构及微观相互作用,进而显著调节材料的物理性质。半导体材料在高压下涌现出了一些新奇的性质,如超导电性、光电流增益、超宽带光响应范围、光致发光增强等。
本文基于金刚石对顶砧技术,选取Ⅲ-Ⅴ族磷化物半导体GaP和金属磷硫族化合物半导体PdPSe和SnP2S6,结合高压光电流、光致发光、电输运、交流磁化率、拉曼、同步辐射X射线衍射等高压实验技术和理论计算,系统研究了GaP、PdPSe和SnP2S6的光学、光电、输运和结构性质在压力下的演化,主要内容如下:
一、压力诱导Ⅲ-Ⅴ族磷化物半导体GaP不可逆的结构相变和超导转变。实验和理论计算证实GaP在临界压力~20 GPa时发生压力诱导的立方相-正交相结构转变。结构的转变进一步导致了压致变色、金属化和超导电性现象的发生。随着压力增加,超导转变温度Tc单调递减。在卸压过程中,GaP经历了部分晶态-非晶态转变,同时Tc在压力下的演化趋势发生变化且超导转变明显展宽。由于结构相变的不可逆,超导电性在卸压过程中得以保留。
二、层状金属磷硫族化合物半导体PdPSe中压力诱导的光电响应增强和非晶化。研究发现压力可以显著增强PdPSe的光电响应性质,其光电流在25.9 GPa时较常压增强了两个数量级。随着压力的进一步增加,光电流信号突然消失;同时PdPSe中出现金属化和超导现象。超导转变温度Tc在压力下先单调增加,在30 GPa之上趋于稳定。高压结构分析表明,光电流的消失和超导电性的出现与高压非晶相的形成有关。由于卸压过程中非晶化的保留,PdPSe的金属导电行为一直保持至近常压。
三、层状金属磷硫族化合物半导体SnP2S6中压力下的光电响应和压力诱导的超导电性。温度、压力均可显著改变SnP2S6的发光性质,其光致发光强度在1 GPa以内出现小幅度增强,在更高压力下强度逐渐减弱。SnP2S6的光电流在12-20 GPa范围内增加。在临界压力20 GPa附近,SnP2S6中发生金属化和超导转变,与此同时光电流信号突然消失。压力下光电流的消失起源于压力诱导的金属化转变。随着压力的进一步增加,超导转变温度Tc单调上升,并于50.5 GPa时达到8.1 K。高压结构分析表明SnP2S6的菱方结构在54.1 GPa以内保持稳定,因此SnP2S6中超导电性的出现与结构相变无关。
综上所述,通过引入压力序参量,我们实现了对GaP、PdPSe和SnP2S6这三种含磷半导体材料的光学和电学性质的有效调制。这些结果有助于深入理解含磷半导体材料的结构-性质关系,同时为优化半导体材料的光学、电学性质提供了新途径。