关键词:
微结构制备
纳秒激光
杂散光抑制
激光材料加工
摘要:
光学技术的快速发展对探测系统提出了更高的要求,为了提高光学系统对弱小目标的探测能力,需要减小到达成像面的杂散光强度。针对轴外杂散光对光学系统的干扰,通常使用遮光罩和发黑涂层的方式抑制杂散光。但是,航天光机载荷质量和体积存在限制,且发黑涂层和植绒等方式在极端环境下会产生脱落,污染光学系统内部结构。激光加工陷光结构通过在表面制备微米、纳米尺度的结构提高材料表面吸收率方式抑制杂散光。该方法具有稳定、杂散光抑制性能强等优势。但是,陷光结构对于小角度入射的杂散光抑制能力有限,且在中波红外波长范围抑制性能下降。针对上述问题,本文研究内容如下:
(1)针对微结构受深径比限制吸光能力有限的问题,改换思路,认为只要光不再向传感器端传输就能够有效抑制杂散光。为此,提出了一种新型的非对称微结构,该微结构改“堵”为“疏”,采用特殊设计的前后微表面将入射的杂散光沿原路返回,防止外部杂散光进入光学系统成像面。
(2)常规激光加工平台无法实现非对称微结构的制备,提出激光倾斜加工的方式,搭建了新型的离焦补偿高速激光加工平台,以实现对非对称微结构的激光高速加工制备。研究了不同加工参数对微结构形貌的影响,分析扫描速率、扫描次数、倾斜角度等参数对形貌的影响,得到合适的加工参数范围,随后进行进一步的加工试验,最终得到加工参数范围内相对较优的加工参数,并使用该加工参数制备了样品。
(3)为评估微结构样品的杂散光抑制性能,在可见条件下进行了反射特性测试,验证了微结构样品可见光下反射特性,模拟轴外杂散光经过光学系统对成像面造成干扰,进行了仿真综合测试试验,离轴入射角为15°时,微结构表面等效点源透过率为7.9×10-5,微结构表面杂散光抑制性能相比于阳极氧化表面提升了10倍。中波红外条件下进行了反射率测试,测得入射角为15°时,微结构表面的反射率为15.3%。中波红外杂散光侵扰试验中,当杂散光位于视场边缘时,微结构表面系统点源透过率为7.7%,微结构表面中波红外条件下轴外杂散光综合抑制性能优于阳极氧化表面。在红外相机内部加装微结构样品进行了整机测试,测得视场边缘的轴外杂散光在视场边缘时,加装微结构样品的系统杂散光抑制性能相比于相同尺寸消光螺纹遮光罩提升了5倍。
(4)提出使用表面化学修饰发黑工艺,改善制备的微结构形貌,提升其杂散光抑制性能。研究了样品浸入发黑剂反应时间对微结构表面形貌的影响,发现部分样品表面反射面夹角增加,并且随着微结构边缘阳极氧化层与发黑剂反应与基底分离,微结构深度会迅速减少,随着扫描间隔减少,阳极氧化层从基底分离所需时间会减少。随后使用表面化学修饰制备了样品进行了仿真综合测试,对比阳极氧化表面和使用激光加工制备的微结构品表面,表面化学修饰能够去除微结构边缘熔凝堆积和阳极氧化层,在性能测试中,表面化学修饰后微结构样品在离轴入射角为45°时,杂散光抑制性能得到了提升,后续调整加工参数,减小间距,能够制备得到性能更为优异的非对称微结构样品。