关键词： Ge-SiO纳米颗粒镶嵌薄膜   离子束溅射技术   微观结构   光吸收   光致发光   Raman散射   三阶非线性光学性质  

摘要： 该工作主要研究纳米锗颗粒镶嵌在SiO<,2>介质薄膜中的制备技术,微观结构和光学性质.研制了一台离子束溅射制膜装置,探索了优化的制备工艺条件,成功地制备出纯度高、均匀性好、附着力强、光学性能优良的Ge-SiO<,2>纳米颗粒镶嵌薄膜样品.用透射电子显微镜直接观察纳米锗颗粒在SiO<,2>介质基体中的分布、形态及大小,研究了热处理温度和时间与颗粒平均直径之间的关系,探索出控制锗粒子尺寸的有效方法.用TEM,XRD,AES,XPS等多种实验技术综合研究复合薄膜的微观结构和成分组成,对薄膜样品的成分和质量进行了评估.实验首次发现,镶嵌在SiO<,2>非晶薄膜中的纳米Ge晶粒具有一种新型的fcc结构,其点阵参数随着纳米锗粒子的尺寸增长而变大.采用Z扫描技术和透过率绝对测量方法分别研究了Ge-SiO<,2>纳米颗粒镶嵌薄膜的三阶非线性光学性质.实验首次发现:样品在较低功率激光作用下具有比块体材料大几个数量级的三阶非线性光学系数,并且随着激光能量的变化而表现出不同的非线性吸收类型.讨论了三阶光学非线性响应增强的物理机制.

关键词： 显微结构   锆刚玉   莫来石   碳化硅   复合材料  

摘要： 用热压的方法制备了Ａｌ２Ｏ３／莫来石（３／１）＋１５％ＡｒＯ２十１０％ＳｉＣ四元复合材料。采用ＡＥＭ和ＡＥＭ－ＥＤＳ等研究了材料的显微结构以及品界两侧金属元素的分布，确定了本材料晶界直接结合的三种形式。

关键词： 单轴非比例加载   微结构   多轴非比例加载   低周疲劳  

关键词： 复合材料   显微组织   镍   碳   碳化硅   陶瓷  

摘要： 本文研究了烧结助剂Ｎｉ对Ｃ－Ｂ_４Ｃ－ＳｉＣ复合材料显微结构与性能的影响．Ｘ射线衍射表明Ｎｉ在烧结温度下与ＳｉＣ，Ｂ_４Ｃ人发生反应在晶界生成Ｎｉ_（４．６）Ｓｉ_２Ｂ，并产生液相，有效地促进了Ｃ－Ｂ_４Ｃ－ＳｉＣ复合材料的烧结，抑制了晶粒的长大，使复合材料密度与强度大幅度地增加，电阻率下降；同时Ｎｉ_（４．６）Ｓｉ_２Ｂ在氧化时生成致密的２ＮｉＯ·Ｂ_２Ｏ_３，包裹了易氧化的Ｂ_４Ｃ和Ｃ，有效地防止了复合材料的氧化，从而大大提高了制品的抗氧化性能．

关键词： 粉煤灰   吸附材料   显微结构   脱色性能  

摘要： 本文研究了加入粘结剂制成的粉煤灰基质多孔吸附材料的显微结构，将它与原灰结构作比较，并进一步研究了加入粘结剂再加入外掺剂材料的显微结构。从理论上阐述了提高粉煤灰基质多孔吸附材料吸附、脱色性能的机理。

关键词： 陶瓷   复合材料   烧结助剂   显微结构   碳化钛   性能  

摘要： 本文就烧结助剂ＴｉＣ对Ｃ—Ｂ４Ｃ—ＳｉＣ炭／陶复合材料显微结构与性能的影响进行了研究，结果表明ＴｉＣ在烧结过程中发生了固相反应，在晶界生成了ＴｉＢ２，有效地促进了Ｃ—Ｂ４Ｃ—ＳｉＣ复合材料的烧结，抑制了晶粒的长大，使复合材料密度与强度大幅度地增加，电阻率下降；同时ＴｉＢ２在氧化时生成致密的ＴｉＯ２，包裹了易氧化的Ｂ４Ｃ和Ｃ，使制品难氧化，从而大大提高了制品的抗氧化性能。

关键词： 氮化硅   碳化硅   显微结构   纳米   陶瓷   复合粉体  

摘要： 以自制的纳米ＳｉＣ－Ｓｉ＿３Ｎ＿４复合粉体为原料，用气压烧结的方法制备陶瓷复合材料。对此材料用ＴＥＭ和ＨＲＥＭ电镜显微分析的结果发现两种不同的显微结构：纳米－微米结构和亚微米－微米结构。对两种结构的形成机理作了初步的探讨。

关键词： 纳米硅   薄膜   电导率   量子点  

摘要： 该文报道了在等离子增强化学汽相淀积(PECVD)系统中,用高倍氢稀释硅烷作为反应气体,在射频和直流双重功率源作用下制备出了纳米硅薄膜(nc-Si:H).用高分辨电子显微镜(HREM)、扫描隧道显微镜(STM)、Raman光散射、X射线衍射和红外吸收光谱分析手段研究了淀积膜的结构特征.分析表明:nc-Si:H薄膜是由占晶态体积比约50%的纳米数量级硅晶粒和大量界面原子组成的晶粒间界面构成.界面的厚度为2~4个原子层,且占约40%的体积比.该文系统地研究了薄膜生长工艺参数对淀积膜的影响,得出了生长nc-Si:H薄膜的最佳工艺条件.并对nc-Si:H薄膜的光学和电学特性进行了测量.结果表明:nc-Si:H薄膜具有较高的吸收系数,其光学带隙E<,g\'opt>在1.75eV~1.86eV范围.在室温条件下,nc-Si:H薄膜电导率在10<\'-3>~10<\'0>Ω<\'-1>·cm<\'-1>范围,高于非晶硅(a-Si:H)、微晶硅(μc-Si:H)和本征单晶硅,并且电导激活能很小(0.11eV~0.22eV).