关键词:
镁合金
化学转化膜
“金属/溶液”界面
溶液设计
形核均匀化
表面纯净化
摘要:
表面防护涂层通过使镁合金与腐蚀介质隔绝而达到腐蚀防护的目的。在众多防护技术中,化学转化工艺操作简单、生产成本低廉,因此被普遍应用于工业界。铬酸盐转化工艺较为成熟,但铬酸盐转化膜中含有会对环境造成污染的重金属离子,因此在生产应用中受到极大限制。磷酸盐转化工艺具有环保无毒的优势,被广为研究。磷酸盐化学转化膜是一种沉积型膜层,当成膜离子浓度达到临界过饱和度而沉积,其沉积过程受“金属/溶液”界面反应的控制。本文从“金属/溶液”的界面反应控制入手,针对当前转化膜领域存在的主要问题进行了研究。提出了转化膜溶液的设计原则,开发了形核均匀化前处理的方法,以及建立并验证了针对镁合金表面高电位阴极相的纯净化的可靠模型。主要研究工作以及结果如下:1.在“金属/溶液”界面的溶液一侧,改变了以往的溶液设计思路,提出了无铬无裂纹转化膜溶液的设计原则。设计的转化液含有两类溶质,第一类溶质可与镁合金反应,提高“金属/溶液”界面的pH值,从而引发第二类溶质形核。第二类溶质处于过饱和状态,沉积是物理结晶过程,即使生成的膜层将镁合金基体与转化液隔绝也能继续沉积而增厚。通过调节TA/pH控制成膜行为,实质上是通过提高第二类溶质的Jsp使其尽可能接近JC,sp(约1×10-3)。越接近JC,sp,形核密度越大,膜层越厚且致密。在设计转化液时,添加适量络合剂可建立Mn2+缓冲对,扩大TA/pH的调整范围;添加适量氧化剂可提高成膜过程的电化学反应速率,促进镁基体溶解;添加适量催化剂可增加“金属/溶液”界面成膜阳离子浓度,提高沉积速率。化学转化膜沉积的实质是“金属/溶液”界面处溶质达到临界过饱和状态,可通过对过饱和度的计算以及临界过饱和度的测定,来指导转化液的设计,使PCCs(化学转化膜)的耐蚀性能得到明显提高。2.第二类溶质过饱和度过高会造成转化液有效成分降低,溶液设计存在局限性。在转化初期镁合金的表面状态决定了后期的膜层质量,因此在“金属/溶液”界面上进行预形核前处理,以调控镁合金的表面状态。预形核前处理液需要第二类溶质的过饱和度较高,因此通过适当提高第二类溶质的浓度以及溶液pH的方式进行设计。设计的溶液具备较高过饱和度(Jsp≈1.35×10-3),会形成MnHPO4·3H2O团簇,需要现用现配。转化生成的晶核与镁合金基体结合紧密,可避免析氢吹离,形成的晶核可以为PCCs提供生长位置。即使在低过饱和的基准磷化液中(Jsp≈2.83×10-6),MnHPO4·3H2O形核也可迅速长大合并为较致密的膜层,可以避免使用高过饱和的转化液导致有效成分降低的问题。因N-MnPCC致密度较高,其阴阳极效应被明显抑制,所以耐蚀性能得到明显提高。3.镁合金表面电化学性质不均匀会使得形核不均匀,导致膜层生长不均匀而产生缺陷。可在“金属/溶液”界面上通过“形核均匀化”处理,使预形核处理后获得的晶核在镁合金表面均匀分布。采用过饱和度较低(Jsp≈2.83×10-6)的基准磷化液进行预形核前处理,再通过均匀擦拭镁合金表面的方式进行“形核均匀化”处理,AFM观察,镁合金表面晶粒细化、形核密度增大,晶核在α、β两相上均匀分布。继而转化10s,α、β两相上均匀分布有粒径大小约为500nm椭球状晶核,结合EDS结果推测晶核成分为MnHPO4·3H2O。“形核均匀化”处理可降低镁合金的表面能,使膜层倾向于铺展生长,晶核可迅速长大合并最终生成均匀致密的PCCs。在腐蚀过程中R-MnPCC出现了“自修复”现象,因为R-MnPCC均匀致密,阴阳极效应受到抑制,腐蚀产物在缺陷处堆积,阻碍腐蚀介质侵蚀镁合金基体。因而R-MnPCC表现出耐蚀性能暂时提高的“自修复”现象。4.镁合金表面电化学性质不均匀不仅会使形核不均匀,而且在腐蚀过程中会形成腐蚀微电偶,加速膜层剥落。可通过“表面纯净化”处理将金属一侧的金属杂质去除。设计的“表面纯净化”处理液具备如下特征:处理液为碱性,可防止镁合金基体被溶解;添加氧化剂(NO3-)可提高溶液体系的氧化电位,促进金属杂质溶解;添加络合剂(EDTA4-)可降低杂质金属的平衡电位,促进金属杂质溶解的同时还可以防止其再沉积。依据热力学计算的优势区图,可确定处理液的浓度及pH值。经“表面纯净化”处理后,镁合金AZ91-T4中Alx(Mn,Fe)y阴极相被去除,表面电化学性质变得相对均匀,微电偶效应降低,转化过程中SP-MnPCC的形核生长速度明显降低。Alx(Mn,Fe)y相被去除后留下的凹坑被膜层覆盖,生成的膜层相对均匀平整。阴极相的去除,还降低了腐蚀过程中的微电偶腐蚀作用,减缓了腐蚀介质对镁合金的侵蚀速度,为腐蚀产物的形成以及在PCCs缺陷处的堆积提供了时间,延缓了腐蚀的进行,使SP-MnPCC的防护效果明显提高。