关键词:
镁合金
微弧氧化
腐蚀性能
复合电解液
封孔处理
摘要:
镁合金具有密度小、比强度和比刚度高等优点,被认为是目前低碳轻量化工程应用最具前景的材料之一。然而,由于镁合金具有高的化学和电化学活性,较差的耐腐蚀性,限制了镁合金的广泛应用和进一步发展。表面改性技术的发展使镁合金的耐蚀性能得到有效提升,微弧氧化(MAO)是近年来得到成功工业化应用的新技术,其在高电压与大电流下,通过一系列电化学、等离子体化学反应,在镁合金基体表面生成陶瓷膜层,可以明显的提高镁合金的耐腐蚀以及耐磨性能,对扩大镁合金的应用具有重要意义,因此,微弧氧化技术得到了快速发展。本文通过熔炼、正挤压制备了 Mg-6Zn-1Y-(Zr,Nd,Gd)合金,再用微弧氧化技术对镁合金表面进行处理。探讨了高锰酸钾添加剂浓度对微弧氧化膜层性能、形貌的影响,制备了致密的微弧氧化膜层。在此基础上,通过添加纳米二氧化硅颗粒对制备的微弧氧化膜层进行封孔处理,并对封孔后的微弧氧化膜层性能进行了对比研究。主要结论如下:
(1)MAO膜层主要是由Mg、MgO、Mg2SiO4组成。当加入KMn04后,MAO膜层产生Mg6MnO8相,说明膜层产生的颜色与Mg6MnO8相数量有关。在不同浓度的KMnO4下,制备的MAO膜层具有不同的颜色,且随着KMnO4浓度提高,MAO膜层颜色由浅黄色变为棕色,膜层厚度先上升后下降。当KMnO4浓度为0.2g/L时,制备的MAO膜层厚度可达20.2μm,膜层表面的孔洞数量少,火山状突起物分布均匀,膜层表面具有最小的粗糙度,其值为1.16μm,孔隙率约为9.7%,膜层与基体结合力较好。
(2)MAO膜层的耐蚀性随着电解液中KMnO4浓度的增加先上升后下降,当KMnO4浓度为0.2g/L时、腐蚀电流密度最小,容抗弧半径尺寸最大。中性盐雾实验性能优异,123 h才出现第一个腐蚀点,并且在132h盐雾腐蚀过程中,其失重率仅为0.08%,腐蚀后MAO膜层只有微裂纹出现。,
(3)在优选的电解液中,加入SiO2颗粒可以实现对MAO膜层进行封孔。制备的膜层厚度不断增大,当SiO2浓度为8g/L时,膜层最大厚度可以达到25.3μm。SiO2的加入不会改变MAO膜层的形貌,依然呈现典型的多孔火山状形貌。当SiO2浓度为6g/L时,MAO膜层微孔数量较少,此时SiO2对膜层填充效果最佳,基体与微弧氧化膜层具有最佳的结合力,热震31次无剥落现象。
(4)SiO2的加入对MAO膜层相组成影响较小,膜层由Mg、MgO、Mg2SiO4和Mg6MnO8相构成。当SiO2浓度为6g/L时,腐蚀电流密度最小,容抗弧半径尺寸最大。中性盐雾实验发现经过149 h腐蚀后才出现第一个腐蚀点。
(5)电解液最佳配方为:Na2SiO3(10 g/L)、NaOH(2 g/L)、NaF(8 g/L)、C6H5NaO7(1 g/L)、KMnO4(0.2 g/L)和 SiO2(6 g/L)。