关键词:
导通压降Von
关断损耗Eoff
自适应PMOS
浮空电极
自适应二极管
摘要:
IGBT(Insulated Gate Bipolar Transistor)是由BJT(Bipolar Junction Transistor)及MOSFET(Metal-Oxide-Semiconductor Field Effect Transistor)组成的复合功率半导体器件,因此兼具驱动功率小、输入阻抗高及电流处理能力大的优势。IGBT分别向纵向分立器件与横向SPIC(Smart Power Integrated Circuit)两个方向发展,但是IGBT始终存在着导通压降(Von)和关断损耗(Eoff)的矛盾关系。为了改善IGBT的Von-Eoff的折中关系,本文分别提出了一个横向IGBT和纵向IGBT新结构。
1.提出一种具有自适应PMOS和双浮空电极的LIGBT(Lateral Insulated Gate Bipolar Transistor)器件。该器件的主要特征为集成了一个与常规LIGBT区域通过氧化深槽隔离的PMOS和双浮空电极(F1和F2),其中PMOS的栅极由常规LIGBT区域N-drift上方的F1自适应控制,PMOS的漏极通过F2与常规LIGBT区域阳极N+区互连,其源极与阳极P+区短接。在正向导通时,PMOS自适应关断,器件直接进入双极导通模式,有效的避免了Snapback现象。在正向阻断时,PMOS自适应开启,N-buffer电位抬升至接近阳极电位,P+/N-buffer结关断,器件实现了类MOS的单极击穿模式,提高了器件的击穿电压(BV)。在关断期间,在电压上升阶段,PMOS自适应关断,F1电极加速对电子和空穴的复合,在电流下降阶段,PMOS自适应开启,F2电极加速对电子和空穴的复合,从而降低了器件的Eoff,改善了器件的Von-Eoff折中关系。在反向导通时,通过体内的PIN二极管与PMOS的寄生PNP晶体管实现反向导通能力。在反向恢复过程,寄生PNP晶体管导通,F2电极加速电子与空穴复合,降低了器件的反向恢复电荷(Qrr)。仿真结果表明,与SSA和STA LIGBT比较,在相同的Von下,SPF LIGBT的Eoff分别降低了79%和55%;与STA LIGBT相比,该器件的Qrr降低了48%;且BV达到了370V。
2.提出一种集成多晶硅电阻和二极管的IGBT器件。该器件的主要特征为在发射极端集成了多晶硅电阻和二极管(DP),多晶硅电阻一端与发射极N+相连,一端与多晶硅二极管N+区域相连共同引出发射极电极,多晶硅二极管P+区域与发射极P+相连。在正向导通时,随着电压增大,自适应二极管P-well/N+(D0)开启,提高了载流子的注入效应,增强了漂移区内的电导调制效应,降低了器件的Von。在关断期间,二极管D0处于导通状态,寄生的PNPN晶闸管加速对载流子的抽取,有效的降低了器件的Eoff。在短路状态时,由于二极管D0在器件进入饱和区之前自适应关断,且多晶硅电阻抬升了发射极N+的电位,从而降低了发射极的载流子注入,使器件的饱和电流密度减小,有效的增加了器件的tsc。