关键词:
光学薄膜
带通滤波器
法布里-珀罗理论
多通道带通
高光谱成像
摘要:
随着光学薄膜技术的发展,带通滤波器在不同领域的应用前景愈发广阔,为各领域的技术进步和创新提供了有力支持。由于应用场景的繁杂多样,对带通滤波器的要求也各有不同,为滤波器的研制带来了极大困难。目前单通道带通滤波器存在应力形变、测试精度等问题,多通道带通滤波器存在光谱范围展宽以及多谱段设计等问题。本文基于法布里-珀罗(Fabry-Perot,F-P)理论,针对单/多通道带通滤波器展开研究。
针对激光雷达探测系统应用需求,完成带宽<1 nm的单通道带通滤波器的研制,解决了应力形变和测试精度的问题。选用Ta2O5和Si O2薄膜材料,确定沉积工艺,并完成光学常数的精确测量。基于F-P理论和材料特性,完成膜系的设计。使用离子束溅射的方法在φ25×1 mm的熔融石英基底上完成薄膜的制备。建立应力形变模型,通过背面增加匹配层的方法以及面型应力补偿的方法优化膜系设计,应力补偿后的滤波器面型Power值为0.22λ,减小应力对单通道带通滤波器带来的光谱漂移影响。针对单通道带通滤波器的光谱测试,分析光束入射的锥角效应,利用激光光束发散角小的特点,搭建高精度光谱特性测试与表征方案,测试单通道带通滤波器中心波长为532.00 nm,峰值透过率为87.23%,半高宽0.79 nm。建立发散角误差分析模型,从理论分析不同发散角对光谱透过率的影响。建立测量误差纠正模型,通过常用的分光光度计测试,得到更精准的光谱透过率曲线,对窄带滤波器的设计和制备具有指导意义。通过带通滤波器的时效性测试,滤波器的中心波长、峰值透过率和带宽有所变化,但变化浮动较小,放置30天后,滤波器性能趋于稳定。
针对智能穿戴设备应用需求,完成515~545 nm、645~675 nm和925~955 nm三通道带通滤波器的研制,解决光谱范围展宽与大角度使用的问题,在光学滤波器的同一区域内,实现频域上的多通道分光。选用Ta2O5和Si O2薄膜材料,通过分析不同温度下Ta2O5薄膜的折射率和表面粗糙度变化趋势,确定最优工艺参数,选择180℃沉积温度。基于F-P窄带理论,利用窄带滤波膜系在中心波长主峰两侧的透射次峰,并通过多个F-P腔结构叠加,设计三通道带通滤波器,优化后膜层共84层,物理厚度约为9.36μm。分析膜层敏感度,设定厚度标准偏差为5‰,随机模拟20次,925~1000 nm波段透过率变化范围在84.24%~99.99%之间,平均透过率大于90%,满足设计要求。采用电子枪热蒸发技术,结合6个晶控片和3个光控片共同监控膜层沉积厚度。最后对光谱特性、粗糙度、弱吸收和SEM进行测试,测试结果满足系统使用要求。切割减薄后得到尺寸2×4mm,厚度0.2 mm的三通道带通滤波器。
针对高光谱成像应用需求,完成7~12μm波段多通道带通滤波器的研制,解决长波红外谱段数量少和透过率偏低的问题。分析多通道窄带滤波器的基本结构、分光方式及工作原理,选择线扫式滤波器阵列的方式,在不同台阶区域实现不同光谱维度的区分。通过对红外基底材料的分析,选择Ge基底。薄膜材料选择Ge和Zn S,测量材料的精确光学常数。基于F-P理论,确定自由光谱范围,优化匹配层结构,提升光谱透过率,透过率从61.23%提升至99.50%,完成多通道带通滤波器的膜系设计。采用电子束热蒸发的方法沉积Ge材料,采用电阻蒸发的方式沉积Zn S材料。沉积底层布拉格镜和间隔层后,进行光刻-刻蚀工艺,对间隔层进行4次光刻-刻蚀,得到16个不同厚度的台阶结构,再沉积顶层布拉格镜。将制备的多通道带通滤波器集成到氧化钒探测器上,并完成光谱成像相机的组装。利用单光仪对光谱成像相机进光谱响应测试,以及SEM测试,16个通道边界清晰分布均匀,覆盖了7~12μm光谱范围,带宽在0.3~0.4μm之间,均小于0.5μm。