关键词:
二维光栅
微结构
电子束镀膜
衍射效率
槽形演化
摘要:
随着高精度精密制造技术的发展,微小器件尺寸的不断突破,制造工艺对精密定位测量技术的要求也随之提升。在高精度精密加工过程中,为保障产品的制造精度,需要精密位移测量系统保证加工刀具和工件之间的定位精度。基于二维平面光栅的微位移测量系统,可以同时对两个方向的微位移进行测量,具有精度高、结构紧凑、阿贝误差小等优点。在二维光栅微位移测量系统中,二维平面光栅是整个测量系统的核心光学元件,开展高品质二维平面光栅的设计与制作对构建高精度二维平面光栅位移测量系统、提升精密加工工艺的技术水平具有重要意义。本文依据严格耦合波理论,结合二维光栅位移测量系统的光路结构和基本原理,开展二维光栅的设计,得到了垂直入射工作方式下二维镀铝光栅理论可达到的衍射效率及其微结构参数对应的数值范围;模拟了镀膜过程中光栅槽形的演化,结合原子力显微镜及扫描电镜的测量结果,重建了光栅微结构模型并对其衍射效率进行了仿真计算;分析了衍射效率实测结果与仿真计算结果产生偏差的原因。主要的工作内容如下:(1)结合二维光栅微位移测量系统的基本原理,对比了 Littrow角入射和垂直入射工作方式下的两种二维光栅位移测量系统的不同,建立了垂直入射工作方式下的微位移测量信息与光栅参数之间的对应关系。(2)基于严格耦合波理论分析了二维光栅的衍射过程,针对两两衍射光互相干涉所形成的干涉条纹对比度达到100%的这一要求,采用Rsoft软件开展了波长632.8nm激光垂直入射条件下周期1000lines/mm二维镀铝光栅的设计,获得了(±1,±1)级较高衍射效率范围的二维镀铝光栅微结构的参数:占空比0.4-0.6、槽深 100nm-250nm。(3)结合镀膜机的结构参数,以周期为1μm、槽深200nm、占空比0.5的矩形光栅为例,对电子束蒸发镀铝过程中矩形槽形的演化过程进行了分析和模拟,结果表明:由于光栅栅齿对斜入射铝原子的遮挡作用,光栅槽底呈“拱形”状,光栅侧壁铝膜厚度与齿顶铝膜厚度不相同,前者为18.23nm,后者为90.77nm,二者比例约为1:5。(4)基于全息技术、离子束刻蚀技术和真空蒸镀技术制备了二维镀铝光栅。采用原子力显微镜和扫描电镜测量了 S1、S2两块样品的掩模、刻蚀、镀铝后的槽形,其中镀铝光栅侧壁铝膜厚度和栅齿顶部铝膜厚度分别为109.1nm/248.2nm、102nm/241nm,槽底略显“拱形”状。根据S1、S2石英光栅样品实测结构参数,模拟了两样品镀膜后的槽形演化,侧壁铝膜厚度和栅齿顶部铝膜厚度分别为:106nm/242nm、96.5nm/240nm,与扫描电镜测量结果相近,验证了镀膜槽形演化模型的合理性和可靠性。(5)搭建光路测试了镀铝光栅S1、S2的衍射效率,S1样品测试的(1,1)、(1,-1)、(-1,1)、(-1,-1)衍射效率分别为 7.61%、8.56%、10.14%、5.98%,S2 样品测试的(1,1)、(1,-1)、(-1,1)、(-1,-1)衍射效率分别为 9.03%、12.71%、12.18%、9.49%。根据槽形的实测结果,重建了光栅微结构模型并对其衍射效率进行了仿真计算,计算的四个级次的衍射效率均相等,分别为12.13%和21.11%。仿真分析了衍射效率实测结果与重建模型计算结果产生偏差的原因,包括表面“毛刺”、圆角、槽形非对称等。