关键词:
纳米压印
光栅结构
振动辅助
薄膜
填充率
透射率
摘要:
针对纳米压印过程中压印胶填充率低导致图案转移质量不佳,压印力过大损坏模板表面形貌等问题,提出一种基于压电驱动低频、低幅的振动辅助纳米压印方法制备光栅结构。在压印时施加横向一维振动,减小纳米压印过程中所需的压印力,提高压印胶对模板空腔的填充率。为研究双面光栅薄膜的周期变化对透射率的影响规律,运用时域有限差分法在波长500~1500 nm范围内对不同周期参数的双面光栅结构进行仿真分析,得到周期参数变化对透射率的影响规律。在研制的振动装置上进行振动辅助纳米压印实验,并对制备出的双面光栅结构进行表面形貌表征以及透射率检测。实验结果表明,与无振动纳米压印技术相比,压印胶填充率显著提高,并改善了图案转移质量,减少大面积表面缺陷。在波长500~1500 nm范围内,涂覆振动辅助纳米压印制备的双面光栅薄膜的SiO_(2)比传统纳米压印制备的双面光栅薄膜的SiO_(2)平均透射率提高4%,较无薄膜的SiO2平均透射率提高6%。