关键词:
氧化锌
外延生长
蓝宝石图形衬底
第一性原理计算
摘要:
氧化锌(ZnO)是典型的第三代半导体材料,具备高激子束缚能(60 meV)、宽带隙(3.37 eV)以及抗辐射性能强等优点,使其在激光和紫外发光二极管器件等领域有广泛的用途。随着材料科学技术的不断发展,ZnO的单晶制备技术不断成熟,质量得到了极大地提高,制备路径也变得多样化,已经做到了绿色无污染,充分符合当下环保发展路径。高质量ZnO薄膜制备是获得高性能ZnO基光电器件的关键。为了探索高质量ZnO薄膜生长方法,我们在蓝宝石图形衬底上进行了 ZnO薄膜的外延生长。因为蓝宝石图形衬底表面的规则立体图形能够让薄膜的生长具有一定的选择性,位错和缺陷都能够得到一定程度地减少,从而提升了薄膜的生长质量、内量子效率和光提取效率,使图形衬底在发光LED器件中得到了广泛地运用。基于此,本工作利用分子束外延(MBE)在蓝宝石图形衬底上生长了厚度为1 nm的氧化锌(ZnO)薄膜和氧锌镁(MgZnO)薄膜。通过扫描电子显微镜(SEM)分析表明,相较于MgZnO薄膜,ZnO薄膜在蓝宝石图形衬底上具有更明显的生长取向性。根据这一现象,我们后期采用原子层沉积(ALD)方法,在图形衬底上生长了不同厚度的ZnO薄膜来探索薄膜厚度对薄膜性能的影响。表面形貌分析表明,ZnO薄膜趋向于在图形衬底的侧面上优先生长。结构和光学特性分析表明,随着薄膜厚度的增加,一方面会出现越来越多的晶面,但这些晶面始终为纤锌矿结构的晶面,另一方面薄膜的质量也得到了提升,并且样品发生了蓝移现象,禁带宽度得到了加宽。为了进一步拓宽ZnO基半导体材料的应用场景,往往能够通过成熟的能带工程和自旋调控等途径对其各方面性能进行调控。比如,通过Mg原子掺杂形成三元合金MgZnO来拓宽ZnO带隙的能带工程;或是通过在ZnO中掺杂磁性过渡金属离子或稀土金属离子来替代非磁性Zn元素,实现自旋调控并形成稀磁半导体材料等。基于此,我们将ZnO能带工程及自旋调控进行了有机结合,利用基于密度泛函理论(DFT)的第一性原理方法,计算并分析了 Fe-Mg共掺ZnO体系的结构性质、结构稳定性和电磁性能。结构分析表明,Fe原子的掺杂是体系产生畸变的主要原因,而Mg原子虽然不会给ZnO带来畸变,但其与Fe原子的强相关性会影响Fe原子给体系带来的畸变程度。稳定性分析表明,体系的稳定性和畸变程度呈正相关关系。电磁性能分析表明,Fe原子和Mg原子的掺杂虽然能够一定程度上调制ZnO的带隙,但并不会改变其直接带隙特性。此外,Fe原子的掺杂会在体系中引入一定的磁性和杂质能级。通过对Fe原子初始磁矩方向的调控能够进一步调制体系的能带结构和带隙。在2.78%Fe掺杂浓度和1.39%Mg掺杂浓度的Fe-Mg共掺ZnO体系中,从其自旋电荷密度和能带结构中可以发现,O原子总是与周围Fe原子发生顺磁耦合,并且当Fe元素的初始磁矩平行时,在其相反的通道中带隙会变宽。而当Fe原子的初始磁矩反平行时,体系的自旋向上和自旋向下通道的带隙均会变窄。这说明Fe原子的初始磁矩对能带结构有很大的影响,为动态调节带隙提供了另一种方法,使体系成为带隙可控的稀磁半导体(DMS)。